发明名称 PLASMA-ASSISTED REACTIVE ELECTRON-JET VAPORISATION PROCESS
摘要 <p>Bestimmte nichtoptische Eigenschaften, insbesondere mechanische Eigenschaften, sind bei der industriellen Herstellung von Schichten, besonders wenn hohe Anforderungen an die Härte, Verschleißfestigkeit und Barrierewirkung gestellt werden, in-situ nicht meßbar, um die Schichten reproduzierbar aufzubringen. Es sollen die Werte der optischen Schichteigenschaften als Regelsignal verwendet werden. Erfindungsgemäß werden unmittelbar nach dem Durchlauf des Substrates durch die Bedampfungszone die Reflexion und/oder Transmission und das Absorptionsvermögen im Wellenbereich von Δμ = 150 nm bis 800 nm gemessen und daraus werden der Brechungsindex und der optische Absorptionskoeffizient bestimmt. Diese ermittelten Werte werden mit einem experimentell ermittelten Sollwert verglichen. Ein daraus gewonnenes Regelsignal regelt bei konstantem Reaktivgas-Partialdruck das Plasma und hält die optischen Eigenschaften der Schicht konstant. Das Verfahren findet beim Aufdampfen von verschleißarmen, harten Schichten oder Barriereschichten, z.B. aus Metalloxid auf Glas, Kunststoff und anderen Materialien Anwendung; z.B. in der Bauindustrie für Fassadenglas, in der Verpackungsindustrie.</p>
申请公布号 WO1994010356(A1) 申请公布日期 1994.05.11
申请号 DE1993000748 申请日期 1993.08.18
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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