金属离子含量低的4,4′－[1－[4－[1－(4－羟基苯基)－1－甲基乙基]苯基]－1,1－亚乙基]双酚及其光敏抗蚀剂组合物

摘要

本发明提供制备金属离子含量低的TPPA的方法,采用了处理过的离子交换树脂。还提供了从这种TPPA制备光敏抗蚀剂组合物的方法,以及采用这种光敏抗蚀剂组合物生产半导体器件的方法。

主权项

1．一种制备正性光敏抗蚀剂组合物的方法，包括：a)用去离子(DI)水清洗酸性离子交换树脂，随后用无机酸溶液清洗，再用DI水清洗，从而降低离子交换树脂中钠和铁离子含量至各低于200ppb；b)用DI水清洗阴离子交换树脂，随后用无机酸溶液清洗，再用DI水清洗，然后用氢氧化铵溶液清洗，再用DI水清洗，从而降低阴离子交换树脂中钠和铁离子含量至各低于200ppb；c)制备在DI水中的TPPA浆，固含量约1-20％，并过滤得到滤饼；d)将滤饼倒入DI水中，再制备浆液，固含量约1-20％，并过滤；e)制备TPPA的滤饼在极性溶剂或极性溶剂混合物中的溶液；f)将TPPA溶液通过所述阳离子交换树脂，随后通过所述阴离子交换树脂，从而降低所述TPPA溶液中的金属离子含量至各低于100ppb；g)将TPPA溶液加入DI水中，从而沉淀出TPPA；h)通过过滤器过滤TPPA，并且干燥TPPA；i)通过提供以下组分的混合物制备光敏抗蚀剂组合物：1)足以光敏化光敏抗蚀剂组合物的光敏组分；2)金属离子含量十分低的不溶于水而溶于碱水的成膜性酚醛清漆树脂；3)纯化的TPPA；4)合适的光敏抗蚀剂溶剂。