| 发明名称 |
Insulating Film Material Method for Forming Film by using the Insulating Film Material and Insulating Film |
| 摘要 |
하기의 화학식1에 나타나는 플라즈마 CVD용 절연막 재료, 이 절연막 재료를 이용한 성막 방법 및 절연막. [화학식 1]화학식1에 있어서, m 및 n은 3∼6의 정수이고, m과 n은 1분자 중에서 동일하여도 서로 상위하여도 좋다. |
| 申请公布号 |
KR101635120(B1) |
申请公布日期 |
2016.06.30 |
| 申请号 |
KR20117005949 |
申请日期 |
2009.09.01 |
| 申请人 |
코쿠리츠켄큐카이하츠호징 붓시쯔 자이료 켄큐키코;타이요 닛폰 산소 가부시키가이샤 |
发明人 |
오노 다카히사;타지마 노부오;이나이시 요시아키;신리키 마나부;미야자와 카즈히로 |
| 分类号 |
C23C16/42;H01L21/312 |
主分类号 |
C23C16/42 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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