| 摘要 |
<p>본 고안은 반도체 웨이퍼 현상장치에 관한 것으로, 상면에 웨이퍼가 안착됨과 아울러 저면에는 회전축이 결합되어 회전 가능한 웨이퍼척(11)과, 이 웨이퍼척(11)의 상측에 설치되어 웨이퍼에 현상액을 분사하는 현상액 분사노즐과, 웨이퍼척(11)의 외곽에 설치되어 공정 진행시 회전하는 웨이퍼척(11)으로부터 현상액이 비산되는 것을 방지하기 위해 상기 회전축이 관통되도록 중앙에 축관통공(12a)이 형성된 캐치컵(12)과, 이 캐치컵(12)의 바닥면 외곽에 연결 설치되어 웨이퍼에 분사된 현상액을 배출하기 위한 현상액 배출라인(16)과, 상기 캐치컵(12)의 축관통공(12a) 외측에 돌출 설치되어 웨이퍼에 분사되는 미반응 현상액이 캐치컵(12)의 현상액 배출라인(16)으로 배출되는 것을 방지하기 위한 현상액 회수링(13)과, 이 현상액 회수링(13)과 축관통공(12a) 사이에 연결 설치되어 미반응 현상액을 회수하는 현상액 회수라인(17)과, 이 현상액 회수라인(17)의 하측에 설치되어 회수된 현상액을 저장하기 위한 현상액 저장탱크(18)를 포함하여 구성됨으로써, 현상공정을 진행하기 위해 필요 이상으로 과다하게 사용되는 현상액을 모두 폐기 처분하지 않고 미반응된 현상액은 현상액 저장탱크로 회수하여 재사용할 수 있도록 함으로써 공정비용을 현저히 절감하게 된다.</p> |
