发明名称 用于纯化双特异性抗体的抗体修饰方法
摘要 本发明发现了高效纯化双特异性抗体的方法:对于构成双特异性抗体的2种抗体,通过修饰存在于抗体可变区表面的氨基酸,在2种抗体的H链之间导入等电点差异,利用等电点差异,用色谱柱高效纯化双特异性抗体。还发现:向等电点有差异的抗体的恒定区整合各抗原结合部位(重链可变区),使它们共表达,用色谱柱高效纯化双特异性抗体。
申请公布号 CN101460622A 申请公布日期 2009.06.17
申请号 CN200780020126.3 申请日期 2007.03.30
申请人 中外制药株式会社 发明人 井川智之;角田浩行
分类号 C12N15/09(2006.01)I;A61K39/395(2006.01)I;A61P43/00(2006.01)I;C07K16/00(2006.01)I;C07K19/00(2006.01)I;C12N1/15(2006.01)I;C12N1/19(2006.01)I;C12N1/21(2006.01)I;C12N5/10(2006.01)I;C12P21/02(2006.01)I 主分类号 C12N15/09(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 熊玉兰;李平英
主权项 1. 多特异性抗体的制备方法,所述多特异性抗体含有第1多肽和第2多肽,该制备方法包含以下步骤:(a)修饰编码第1多肽的氨基酸残基的核酸和编码第2多肽的氨基酸残基的核酸两者或其中之一,使第1多肽与第2多肽的等电点产生差异;(b)培养宿主细胞,使其表达该核酸;(c)从宿主细胞培养物中回收多特异性抗体。
地址 日本东京都