| 发明名称 |
リソグラフィ装置における加熱システムおよび冷却システム |
| 摘要 |
【課題】リソグラフィ装置におけるパターニングデバイスの温度を制御するためのシステムについて述べる。【解決手段】システムは、冷却システムおよび加熱システムを含む。冷却システムは、パターニングデバイスの露光前またはパターニングデバイスの露光中にパターニングデバイスから熱を除去するために、ガス流をパターニングデバイスの表面にわたって第１方向に沿って誘導するように構成される。加熱システムは、パターニングデバイスの露光前またはパターニングデバイスの露光中にパターニングデバイスの表面上の領域を選択的に加熱するように構成される。選択的な加熱および熱の除去は、パターニングにおける実質的に均一な温度分布を達成する。【選択図】図２Ａ |
| 申请公布号 |
JP5990613(B1) |
申请公布日期 |
2016.09.14 |
| 申请号 |
JP20150072256 |
申请日期 |
2015.03.31 |
| 申请人 |
エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．;エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ． |
发明人 |
オンブリー，ヨハネス;メイスン，クリストファー，ジェー．;イバート ジュニア．，アール，ウィリアム;デルマストロー，ピーター，エー．;ワード，クリストファー，チャールズ;ヴェントゥリーノ，トーマス;シュルツ，ジェフリー，アラン;バーバンク，ダニエル，ネイサン |
| 分类号 |
G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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