| 摘要 |
本発明は、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーに関する。本発明によるミラー（１０、２０、３０、４０）は、光学有効面（１０ａ、２０ａ、３０ａ、４０ａ）と、ミラー基板（１１、２１、３１、４１）と、光学有効面（１０ａ、２０ａ、３０ａ、４０ａ）に入射する電磁放射線を反射する反射層スタック（１４、２４、３４、４４）とを有し、ＩＩＩ族窒化物からなる層（１３、２３、３３、４３）が、ミラー基板（１１、２１、３１、４１）と反射層スタック（１４、２４、３４、４４）との間に配置され、ＩＩＩ族窒化物は、窒化ガリウム（ＧａＮ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、及び窒化アルミニウムガリウム（ＡｌＧａＮ）を含む群から選択される。 |
