磁性多层薄膜之制造装置及制造方法，薄膜制造之评价方法，以及薄膜制造之控制方法

摘要

此磁性多层膜之制造装置之构造为，具有：在基板制造含有多数磁性膜之多层膜之多数处理腔；在与大气隔开之状态下搬运基板之搬运装置；及和金属膜的处理腔；处理腔系具备有：处理包含在多层膜之金属膜的处理装置；以光学式评估金属膜之表面状态之光学式测定装置；及依据由此光学式测定装置所输出的测定讯号，来控制处理装置的动作之控制装置。在膜形成装置内在基板形成多层膜时，可以不将基板暴露于大气，于金属膜的处理工程中，可以管理该金属膜的表面状态，可以在没有过与不足状态下进行该金属膜的处理。

主权项

一种磁性多层膜之制造装置，系具有：在基板制造含有多数磁性膜之多层膜之多数处理腔；在与大气隔开之状态下搬运沈积有膜之上述基板之搬运机构；及Al(铝)膜的处理腔者；其特征为：上述Al膜的处理腔系具备有：处理包含在上述多层膜之Al膜的处理机构；以光学方式评估上述Al膜之状态之光学式测定机构；及依据由上述光学式测定机构所输出的测定讯号，来控制上述处理机构的动作之控制机构。