| 发明名称 | 投影光学系统和图像投影装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种投影光学系统，其包括：第一光学系统，其被配置为形成与第一图像共轭的第二图像；和第二光学系统，其被配置为包括反射来自第二图像的光的反射光学元件并被配置为将与第二图像共轭的第三图像投影到投影面，其中，第一光学系统包括光阑和被提供在该光阑和第二图像之间的至少一个具有正屈光力的光学元件和至少一个具有负屈光力的光学元件，并且，至少一个具有正屈光力的光学元件中具有最大正屈光力的光学元件被提供在光阑和至少一个具有负屈光力的光学元件中具有最大负屈光力的光学元件之间。 | ||
| 申请公布号 | CN101221282A | 申请公布日期 | 2008.07.16 |
| 申请号 | CN200710307781.9 | 申请日期 | 2007.09.17 |
| 申请人 | 株式会社理光 | 发明人 | 安部一成;藤田和弘;高浦淳 |
| 分类号 | G02B17/08(2006.01);G03B21/14(2006.01) | 主分类号 | G02B17/08(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 邵亚丽 |
| 主权项 | 1.一种投影光学系统，包括：第一光学系统，其被配置为形成与第一图像共轭的第二图像；和第二光学系统，其被配置为包括反射来自第二图像的光的反射光学元件，并且被配置为将与第二图像共轭的第三图像投影到投影面，其特征在于，所述第一光学系统包括光阑和在该光阑与第二图像之间的至少一个具 有正屈光力的光学元件和至少一个具有负屈光力的光学元件，并且所述至少一个具有正屈光力的光学元件中具有最大正屈光力的光学元件被提供在所述光阑与所述至少一个具有负屈光力的光学元件中具有最大负屈光力的光学元件之间。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||