发明名称 隔离之相转换记忆体及其制造方法
摘要 一种记忆装置其包括有改良的热传导特征。此装置首先包括一介电材料层;第一及第二电极,其系垂直地分隔并包括有彼此相对之接触表面。一相转换记忆元件系包覆于此介电材料层中,其包括一相转换层位于此些电极之间并与之形成电接触,其中此相转换层之横向宽度系少于此些电极之横向宽度。一隔离材料系位于此相转换层与此介电层之间,其中此隔离材料之导热性系低于此介电材料之导热性。
申请公布号 TWI326120 申请公布日期 2010.06.11
申请号 TW095129115 申请日期 2006.08.08
申请人 旺宏电子股份有限公司 发明人 龙翔澜
分类号 H01L21/8239 主分类号 H01L21/8239
代理机构 代理人 李贵敏
主权项 一种记忆装置,其包括:一介电材料层;第一及第二电极,其系垂直地分离并包括有彼此相对之接触表面;以及一相转换记忆元件(phase change memory element),其系被包覆于该介电材料层中,包括:一相转换层,其系位于该些电极之间且与该些电极形成电性接触,其中该相转换层之横向宽度系短于该些电极之横向宽度;以及隔离材料,其系位于该相转换层以及该介电材料层之间,其中该隔离材料之导热性系低于该介电材料之导热性;复数个导电金属层,其系插设于该第一电极以及该相转换记忆元件之间,以及插设于该相转换记忆元件与该第二电极之间。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路16号