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发明名称
Plasma reactor for deposition or etching process
摘要
申请公布号
EP0641014(B1)
申请公布日期
1997.03.19
申请号
EP19940401885
申请日期
1994.08.23
申请人
ALCATEL CIT
发明人
PEARSON, DAVID
分类号
C23F4/00;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H05H1/46;(IPC1-7):H01J37/32
主分类号
C23F4/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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