发明名称 Plasma reactor for deposition or etching process
摘要
申请公布号 EP0641014(B1) 申请公布日期 1997.03.19
申请号 EP19940401885 申请日期 1994.08.23
申请人 ALCATEL CIT 发明人 PEARSON, DAVID
分类号 C23F4/00;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H05H1/46;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 C23F4/00
代理机构 代理人
主权项
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