摘要 |
1. Устройство (1) неразрушающего контроля электропроводящей детали (4), содержащее средства генерирования магнитного поля возбуждения, отличающееся тем, что упомянутые средства генерирования интегрированы в подложку (2), выполненную с возможностью покрывания зоны поверхности упомянутой контролируемой детали, и ! средства измерения распределения магнитного поля утечки, излучаемого упомянутой контролируемой деталью, на которую действует упомянутое магнитное поле возбуждения, когда упомянутая подложка находится на поверхности зоны детали, и тем, что упомянутые средства измерения распределения магнитного поля наложены на упомянутые средства генерирования. ! 2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что упомянутая подложка (2) является гибкой подложкой, предназначенной для покрывания упомянутой зоны детали (4), следуя форме детали. ! 3. Устройство по пп.1 и 2, отличающееся тем, что упомянутые средства измерения содержат набор микродатчиков, выполненных с возможностью генерирования картографии распределения магнитного поля утечки на поверхности упомянутой детали. ! 4. Устройство по п.3, отличающееся тем, что размеры и расположение микродатчиков определяют таким образом, чтобы они могли обнаруживать изменения распределения магнитного поля утечки, вызванные присутствием дефекта, имеющего наименьшие размеры, детектирование которого добиваются. ! 5. Устройство по п.4, отличающееся тем, что упомянутые средства генерирования упомянутого магнитного поля возбуждения содержат сеть микрокатушек (6), при этом через каждую из упомянутых микрокатушек проходит переменный ток для генерирования упомянутого магнитного поля возб |