发明名称 PROCEDE DE TEST SUR LE SUBSTRAT SUPPORT D'UN SUBSTRAT DE TYPE SEMI-CONDUCTEUR SUR ISOLANT.
摘要 <p>L'invention concerne un procédé de test comprenant une prise de contact électrique sur le support (2) d'un substrat de type "semi-conducteur sur isolant" (1). Ce procédé est remarquable en ce qu'il comprend les étapes consistant à : - a) prendre un substrat (1) de type "semi-conducteur sur isolant" comprenant un substrat support (2) intégralement recouvert d'une couche d'isolant (3) et une couche active (4), une partie (31) de ladite couche d'isolant (3) étant enterrée entre la couche active et la face avant (21) du substrat support (2), - b) retirer une partie de ladite couche d'isolant (3) qui s'étend à la périphérie de la face avant (21) du substrat support (2) et/ou qui s'étend sur sa face arrière (22), de façon à délimiter au moins une zone accessible (210) du substrat support (2), exempte d'isolant, tout en conservant au moins une partie (321) de la couche d'isolant sur la face arrière, - c) appliquer une tension électrique à ladite zone accessible (210), de façon à effectuer ladite prise de contact électrique.</p>
申请公布号 FR2941302(A1) 申请公布日期 2010.07.23
申请号 FR20090050296 申请日期 2009.01.19
申请人 SOITEC 发明人 LAGAHE BLANCHARD CHRYSTELLE
分类号 G01R31/28;H01L23/485;H01L23/498 主分类号 G01R31/28
代理机构 代理人
主权项
地址