发明名称 |
Verfahren zur Reduzierung des Schichtwiderstands in einer elektronischen Vorrichtung, und eine elektronische Vorrichtung |
摘要 |
Verschiedene Ausführungsbeispiele stellen ein Verfahren zur Reduzierung eines Schichtwiderstands in einer elektronischen Vorrichtung bereit, die mindestens teilweise in einem Kapselungsmaterial eingekapselt ist, wobei das Verfahren umfasst: das Bereitstellen einer elektronischen Vorrichtung, die eine mehrschichtige Struktur umfasst und mindestens teilweise durch ein Kapselungsmaterial eingekapselt ist; und das lokale Einführen von Energie in die mehrschichtige Struktur, um einen Schichtwiderstand zu reduzieren. |
申请公布号 |
DE102015107489(A1) |
申请公布日期 |
2016.11.17 |
申请号 |
DE201510107489 |
申请日期 |
2015.05.12 |
申请人 |
Infineon Technologies AG |
发明人 |
Fürgut, Edward;Escher-Poeppel, Irmgard;Schustereder, Werner;Ganitzer, Paul;Fassl, Stephanie;Poeppel, Gerhard;Wiedenhofer, Harald |
分类号 |
H01L21/60;H01L21/268;H01L21/28;H01L21/56;H01L23/48;H01L23/52 |
主分类号 |
H01L21/60 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|