| 发明名称 | 等离子体处理装置及其运转处理方法和电子装置制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种利用不需要远距离腔室和专用微波源等的简单结构就能够清洁处理室内的淀积物的技术。本发明的等离子体处理装置，利用在波导管中传播的、并向在处理室内面上配置的电介质传播的微波，使提供到处理室内的规定气体等离子体化，从而对在处理室内配置的被处理体实施等离子体处理，其中在波导管内，形成至少一部分由通过电介质材料构成的分隔壁包围的空间部，设置通过此空间部，向处理室中提供清洁气体的清洁气体流路。 | ||
| 申请公布号 | CN101162688A | 申请公布日期 | 2008.04.16 |
| 申请号 | CN200710192987.1 | 申请日期 | 2007.10.12 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学 | 发明人 | 平山昌树;大见忠弘;北村昌幸;村田等 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/02(2006.01);H01L21/205(2006.01);H01L21/285(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H01L21/31(2006.01);H01L21/311(2006.01);H01L21/3205(2006.01);H01L21/3213(2006.01);H01L21/67(2006.01);C23C16/44(2006.01);C23F4/00(2006.01);H05H1/46(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种等离子体处理装置，其利用在波导管中传播的、并向在处理室的内面上配置的电介质传播的微波，使提供到处理室内的规定气体等离子体化，对在所述处理室内配置的被处理体实施等离子体处理，该等离子体处理装置的特征在于：在所述波导管内，形成有至少一部分由通过电介质材料构成的分隔壁包围的空间部，设置有通过所述空间部，将清洁气体提供到所述处理室内的清洁气体流路。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||