发明名称 一种液晶显示装置的制造方法
摘要 本发明提供了一种能减少掩模工序数量的液晶显示装置及其制造方。液晶显示装置及其制造方法包括:通过第一掩模工序,在基板上形成栅极图案和公共电极;在包含栅极和公共电极的基板上顺序形成栅绝缘层和有源层;通过第二掩模工序,在所述有源层上形成源极/漏极电极;在整个基板上形成钝化层;通过第三掩模工序,在钝化层上形成感光层图案;通过使用感光层图案作为掩模蚀刻钝化层来形成暴露漏极的接触孔;在包含接触孔的感光层图案上形成导电层;在导电层上形成感光层;通过选择性地移除感光层来暴露导电层;和通过移除暴露的导电层部分、剩余的感光层和感光层图案来形成像素电极。
申请公布号 CN100501515C 申请公布日期 2009.06.17
申请号 CN200610086597.1 申请日期 2006.06.30
申请人 乐金显示有限公司 发明人 李正一
分类号 G02F1/1333(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G02F1/136(2006.01)I 主分类号 G02F1/1333(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人 徐金国;梁 挥
主权项 1. 一种制造液晶显示装置的方法,该方法包括:通过第一掩模工序,在基板上形成栅极和公共电极;在包含栅极和公共电极的所述基板上顺序形成栅绝缘层和有源层;通过第二掩模工序,在所述有源层上形成源极/漏极;在整个基板上形成钝化层;通过第三掩模工序,在所述钝化层上形成第一感光层图案;使用所述第一感光层图案作为掩模选择性地移除钝化层,从而形成多个孔;在包含多个孔的所述第一感光层图案上形成导电层;在所述导电层上形成第二感光层;选择性地移除所述第二感光层,从而暴露导电层;和选择性地移除暴露的导电层部分、剩余的所述第二感光层和所述第一感光层图案,从而形成像素电极。
地址 韩国首尔