发明名称 SYSTEM LEVEL POWER DELIVERY TO A PLASMA PROCESSING LOAD
摘要 본 발명은 전원 공급 시스템, 및 동작의 방법들에 관한 것으로, 하나 이상의 센서들을 통해, 발생기, 매칭 네트워크, 및 플라즈마 부하의 특성들을 모니터하고, 국부 제어기를 통해 이들 구성 부품들을 제어하도록 구성되어 플라즈마 부하의 전원 공급 정확도 및 균일성을 향상시키도록 한다. 제어는, 부품들 간의 변경 및 서너 가지 예를 들면, 플라즈마 밀도, 단부 포인트, 및 플라즈마 광 방출의 스펙트럼 부품들과 같은 비전기적 특성은 물론 전원 공급 시스템의 파워 특성의 통합된 모니터링에 기초할 수 있다.
申请公布号 KR101675625(B1) 申请公布日期 2016.11.22
申请号 KR20137019332 申请日期 2012.01.04
申请人 어드밴스드 에너지 인더스트리즈 인코포레이티드 发明人 블랙번 토마스 조엘;매킨타이어 토마스;토마셀 페르난도 구스타보
分类号 H05H1/40;H01L21/3065;H03H7/40 主分类号 H05H1/40
代理机构 代理人
主权项
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