发明名称 RESIST PATTERN THICKENING MATERIAL AND PROCESS FOR FORMING RESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
摘要
申请公布号 KR100758893(B1) 申请公布日期 2007.09.19
申请号 KR20060019638 申请日期 2006.02.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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