发明名称 制作于经预先图案化的衬底上的MEMS装置
摘要 本发明揭示一种微机电系统装置,其制作于其中形成有凹槽的经预先图案化的衬底上。下部电极沉积于所述衬底上并与正交的上部电极相隔空腔。所述上部电极配置成可移动以调制反射光。半反射性层及透明材料形成于所述可移动的上部电极上面。
申请公布号 CN100501494C 申请公布日期 2009.06.17
申请号 CN200580031234.1 申请日期 2005.08.22
申请人 IDC公司 发明人 克拉伦斯·徐
分类号 G02B26/00(2006.01)I 主分类号 G02B26/00(2006.01)I
代理机构 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人 王允方;刘国伟
主权项 1、一种制作微机电系统装置的方法,其包括:提供衬底,其在所述衬底的顶面中具有多个沟槽;在所述衬底的所述顶面上沉积第一电极层进入至所述沟槽中,其中所述所沉积的第一电极层在所述沟槽与所述顶面之间不连续;在所述第一电极层上形成第二电极;及在所述形成于所述衬底上的第一电极层与所述第二电极之间形成第一空腔。
地址 美国加利福尼亚州