真空镀膜装置

摘要

本发明是一种真空镀膜装置，包括一真空腔室，一旋转支撑组件，一位与该真空腔室内并与该旋转支撑组件连接的基片支撑架，一位于该真空腔室内并与该基片支撑架相对设置的蒸镀源，该基片支撑架包括多个用于承载待镀基片的基板，该真空镀膜装置进一步包括一翻面装置和一翻面控制装置，翻面控制装置设置在真空腔室外，该翻面装置位于真空腔室内，该翻面装置包括一翻转马达、一翻面齿轮、一链条和多个转动齿轮，该链条分别与该翻面齿轮和转动齿轮相啮合，该转动齿轮与所述基板固定连接，该翻面控制装置控制该翻转马达的开启与关闭，该翻转马达驱动该翻面齿轮转动，并通过链条带动该转动齿轮转动，以使该多个基板于真空腔室内水平翻转。

主权项

1. 一种真空镀膜装置，包括一真空腔室，一旋转支撑组件，一位于该真空腔室内并与该旋转支撑组件连接的基片支撑架，一位于该真空腔室内并与该基片支撑架相对设置的蒸镀源，该基片支撑架包括多个用于承载待镀基片的基板，其特征在于：该真空镀膜装置进一步包括一翻面装置和一翻面控制装置，翻面控制装置设置在真空腔室外，该翻面装置位于真空腔室内，该翻面装置包括一翻转马达、一翻面齿轮、一链条和多个转动齿轮，该链条分别与该翻面齿轮和转动齿轮相啮合，该转动齿轮与所述基板固定连接，该翻面控制装置控制该翻转马达的开启与关闭，该翻转马达驱动该翻面齿轮转动，并通过链条传动带动该转动齿轮转动，以使该多个基板于真空腔室内水平翻转。