双扫描式硅片调焦调平测量装置及系统

摘要

本发明提供一种双扫描式硅片调焦调平测量装置及系统，应用于投影光刻机的调平调焦系统中，所述双扫描式硅片调焦调平测量装置由照明单元、投影单元、成像单元及探测单元组成，所述投影单元将狭缝或者狭缝阵列投影在硅片表面，形成测量光斑或者光斑阵列，所述探测单元包括第一、第二探测子单元，以及电信号处理单元，所述成像单元出射的光束分别经由第一和第二探测子单元进入电信号处理单元进行相敏解调。本发明的双扫描式硅片调焦调平测量装置具有较大的有效线性化区域，其光学设计难度小，结构相对紧凑。

主权项

1、一种双扫描式硅片调焦调平测量装置，应用于投影光刻机的调焦调平系统中，所述双扫描式硅片调焦调平测量装置由照明单元、投影单元、成像单元及探测单元组成，所述投影单元将狭缝或者狭缝阵列投影在硅片表面，形成测量光斑或者光斑阵列，其特征在于：所述探测单元包括第一、第二探测子单元，以及电信号处理单元；所述成像单元出射的光束分别经由第一和第二探测子单元进入电信号处理单元进行相敏解调。