发明名称 制备高光学纯卡维地洛的工艺
摘要 本发明涉及一种高效制备高光学纯手性卡维地洛的工艺。根据本发明,采用由N-保护的2-(2-甲氧基苯氧基)乙胺与手性缩水甘油衍生物的反应生成的具有式2的手性噁唑烷-2-酮或噁唑烷-2-硫酮作为制备手性卡维地洛的关键中间体。具体地讲,该制备手性卡维地洛的工艺包括:a)使式2的化合物与卤化剂、磺化剂或mitsunobu试剂反应从而活化式2的化合物的羟基,然后与9H-4-羟基咔唑进行亲核取代反应从而生成式7的化合物,b)在无机碱的存在下使获得的式7的化合物经历去保护反应,从而生成目标手性卡维地洛。可以在温和条件下实现本发明的工艺。该工艺既不需要任何特殊的提纯步骤,也不涉及光学纯度的降低。因此,本发明的工艺以简单有效的方式提供高光学纯手性卡维地洛。
申请公布号 CN101389605A 申请公布日期 2009.03.18
申请号 CN200680053375.8 申请日期 2006.08.31
申请人 安国药品株式会社;瑞斯泰克株式会社 发明人 金成镇;全龙国;姜炫彬;鱼津;元德权;文炳宪;郑畅祐;陈炅镛
分类号 C07D209/88(2006.01)I 主分类号 C07D209/88(2006.01)I
代理机构 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人 韩明星;刘奕晴
主权项 1、一种制备高光学纯手性卡维地洛的工艺,包括以下步骤:a)使式2的化合物与卤化剂、磺化剂或mitsunobu试剂反应,从而活化式2的化合物的羟基,然后与9H-4-羟基咔唑进行亲核取代反应,从而生成式7的化合物,b)使获得的式7的化合物经历去保护反应,从而生成式1的目标手性卡维地洛:<u>式1</u><img file="A200680053375C00021.GIF" wi="991" he="292" /><u>式2</u><img file="A200680053375C00022.GIF" wi="711" he="310" /><u>式7</u><img file="A200680053375C00023.GIF" wi="983" he="333" />其中,<sup>*</sup>表示手性中心,X表示氧或硫。
地址 韩国首尔市