发明名称 一种减小电子显微镜观察晶圆缺陷误差的方法
摘要 本发明涉及大规模集成电路制造领域,尤其涉及一种减小电子显微镜观察晶圆缺陷误差的方法,通过该将晶圆参数直接导入到电子显微镜上,以定义芯片的各种信息,然后再将在电子显微镜下定义好的数据传送并保存到一个数据库中,最后,缺陷检测设备创建缺陷检测的程序时到该数据库中调用晶圆上芯片的信息使得采用电子显微镜观察缺陷的误差被大大地减小,进而确保了观察的精确性。
申请公布号 CN103646885B 申请公布日期 2016.06.08
申请号 CN201310597797.3 申请日期 2013.11.22
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 倪棋梁;王凯;陈宏璘;龙吟
分类号 H01L21/66(2006.01)I 主分类号 H01L21/66(2006.01)I
代理机构 上海申新律师事务所 31272 代理人 竺路玲
主权项 一种减小电子显微镜观察晶圆缺陷误差的方法,其特征在于,所述方法包括:提供一用于缺陷检测的晶圆;采用电子显微镜定义所述晶圆上的参数信息;缺陷检测设备调取所述参数信息,于创建缺陷检测程序后,对所述晶圆进行缺陷检测工艺,以检测出具有缺陷的晶圆;利用所述电子显微镜对所述具有缺陷的晶圆进行观察;所述方法还包括:所述缺陷检测设备创建所述缺陷检测程序时,于所述晶圆上设置若干缺陷控制区域,且每个控制区域均对应设置有一代码;其中所述缺陷检测设备检测出的每个缺陷均对应其所处的缺陷控制区域设置有相应的代码,位于同一缺陷控制区的缺陷具有相同的代码,根据不同代码的缺陷设置不同的缺陷规格,每个所述控制区域的代码均不相同。
地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号