发明名称 热塑性液晶聚合物薄膜的制造方法、以及电路基板及其制造方法
摘要 本发明提供与由热塑性液晶聚合物薄膜构成的被粘物的热胶粘性优良的热塑性液晶聚合物的制造方法、以及电路基板及其制造方法。所述薄膜的制造方法通过下述工序来制造:掌握工序,分别准备热塑性液晶聚合物薄膜作为被粘物薄膜和胶粘性薄膜,对于所述热塑性液晶聚合物薄膜的被胶粘表面部,通过X射线光电子能谱分析掌握[C-O键]和[COO键]的峰面积之和在由C(1s)引起的键峰的峰面积的合计中所占的%比率:X(%)和Y(%);和调节工序,以使所述X和Y满足下述式(1)和式(2)的方式对作为胶粘性薄膜的热塑性液晶聚合物薄膜进行选择或活化处理,38≤X+Y≤65(1),-8.0≤Y-X≤8.0(2)。
申请公布号 CN105683266A 申请公布日期 2016.06.15
申请号 CN201480060003.2 申请日期 2014.10.22
申请人 株式会社可乐丽 发明人 中岛崇裕;小野寺稔;砂本辰也
分类号 C08J5/18(2006.01)I;B32B27/08(2006.01)I;H05K3/28(2006.01)I 主分类号 C08J5/18(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 满凤;金龙河
主权项 一种热塑性液晶聚合物薄膜的制造方法,其是为了对由热塑性液晶聚合物薄膜构成的被粘物(以下称为被粘物薄膜)进行热胶粘而作为胶粘性薄膜使用的热塑性液晶聚合物薄膜的制造方法,其由下述工序构成:掌握工序,分别准备热塑性液晶聚合物薄膜作为被粘物薄膜和胶粘性薄膜,对于所述热塑性液晶聚合物薄膜的被胶粘表面部,通过X射线光电子能谱分析掌握[C‑O键]和[COO键]的峰面积之和在由C(1s)引起的键峰的峰面积的合计中所占的%比率:X(%)和Y(%);和调节工序,以使所述X和Y满足下述式(1)和式(2)的方式对作为胶粘性薄膜的热塑性液晶聚合物薄膜进行选择或活化处理,38≤X+Y≤65    (1)‑8.0≤Y‑X≤8.0   (2)。
地址 日本冈山县仓敷市