| 摘要 |
하향식 기판 에칭 장치가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 하향식 기판 에칭 장치는, 진공 챔버의 하부 영역에 배치되며, 진공 챔버의 저면에 마련되는 챔버 윈도우(Chamber Window)를 통해 진공 챔버 내의 기판으로 레이저 빔(Laser Beam)을 조사하여 에칭 공정을 진행시키는 레이저 모듈(Laser Module); 및 기판과 챔버 윈도우 사이에 회전 가능하게 배치되는 회전식 보호 윈도우(Rotating Protect Window)를 구비하며, 에칭 공정 시 기판으로부터 박리되는 오염물질이 챔버 윈도우에 적재되는 것을 방지시키는 오염물질 적재 방지유닛을 포함한다. |
