METHOD FOR PREPARING A PHOTO-CROSSLINKABLE COMPOSITION

摘要

La présente invention concerne une composition photoréticulable susceptible d'être obtenue par un procédé comprenant les étapes suivantes : (a) réaction d'hydrolyse et de condensation d'un [(époxycycloalkyl)alkyl]-thalcoxysilane en solution dans un milieu organoaqueux contenant de l'eau, dans un rapport molaire initial eau/monomère compris entre 3 et 15, et au moins un solvant miscible avec l'eau, à un pH compris entre 1,6 et 4,0, par chauffage de la solution à une température comprise entre 50 et 70 °C pendant une durée comprise entre 180 et 350 minutes, de manière à obtenir une solution d'un prépolymère hybride organominéral dont la totalité ou quasi-totalité des groupes alcoxysilane a été hydrolysée et qui comporte en moyenne au moins 4 groupes (époxycycloalkyl)alkyle; (b) refroidissement de la composition de prépolymère polyépoxydé obtenue jusqu'à une température comprise entre 15 et 25 °C; (c) addition à cette composition d'au moins un photoamorceur de polymérisation cationique et au moins un photosensibilisateur présentant un maximum d'absorption à une longueur d'onde comprise entre 300 et 420 nm, et optionnellement addition d'un tensioactif; (d) agitation de la composition obtenue pendant une durée comprise entre 10 et 120 minutes à une température comprise entre 15 et 25 °C; (e) filtration de la composition obtenue sur un filtre comportant des pores d'une taille moyenne comprise entre 1 et 5 µm; et (f) stockage du filtrat liquide obtenu à une température inférieure à 0 °C, de préférence comprise entre -20 °C et -10 °C, ainsi que l'utilisation d'une telle composition photoréticulable en tant que résine photosensible négative dans un procédé de photolithographie.