曝光设备、曝光方法和器件制造方法

摘要

一种通过把曝光光经由投影光学系统和液体照射到被放置在所述投影光学系统的图像面一侧的基片而曝光基片的曝光设备，该曝光设备包括：液体供应机构，用来把液体供应到基片上；液体回收机构，用来回收被供应到基片上的液体；以及其中当曝光光照射到投影光学系统的图像面一侧时，液体回收机构不执行液体的回收。

主权项

1. 一种通过把曝光光经由投影光学系统和液体照射到被放置在所述投影光学系统的图像面一侧的基片上而曝光所述基片的曝光设备，所述曝光设备包括：液体供应机构，其把液体供应到所述基片上；以及液体回收机构，其具有在所述基片上方的回收端咀回收被供应到所述基片上的液体；其中当所述曝光光照射到所述投影光学系统的图像面一侧时，所述液体供应机构执行到所述基片的液体供应，且所述液体回收机构不执行所述液体的回收。