| 发明名称 | 二氧化硅薄膜用的冲洗溶液、二氧化硅薄膜及其生产方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种二氧化硅薄膜用的冲洗溶液、二氧化硅薄膜及其生产方法。所述冲洗溶液包含：三甲基苯、二乙基苯、茚满、茚、叔丁基甲苯、甲基萘、包含具有12个或12个以上的碳的芳香烃的混合物、包含具有12个或12个以上的碳的脂肪烃的混合物、包含含有苯基和氧原子的杂烃化合物的混合物、或其组合。本发明的用于二氧化硅薄膜的冲洗溶液能够彻底剥离二氧化硅薄膜的界面区域。 | ||
| 申请公布号 | CN105695165A | 申请公布日期 | 2016.06.22 |
| 申请号 | CN201510452174.6 | 申请日期 | 2015.07.28 |
| 申请人 | 三星SDI株式会社 | 发明人 | 任浣熙;郑日;高尙兰;金佑翰;金哈尼;尹熙灿;李汉松 |
| 分类号 | C11D7/60(2006.01)I;C11D7/24(2006.01)I;C11D7/26(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | C11D7/60(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 李艳;臧建明 |
| 主权项 | 一种用于二氧化硅薄膜的冲洗溶液，其特征在于，包含三甲基苯、二乙基苯、茚满、茚、叔丁基甲苯、甲基萘、包含具有12个或12个以上的碳的芳香烃的混合物、包含具有12个或12个以上的碳的脂肪烃的混合物、包含含有苯基和氧原子的杂烃化合物的混合物或其组合。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号 | ||