加熱されたエッチング溶液を供する処理システム及び方法

摘要

本発明の実施例は、加熱されたエッチング溶液によって基板を処理する処理システム及び方法を供する。一例では、酸性エッチング溶液の温度及び含水量に関する厳密な制御が供される。一の実施例によると、当該方法は、第１循環ループ内で前記加熱されたエッチング溶液を生成する工程、前記基板を処理するためにプロセスチャンバ内に前記加熱されたエッチング溶液を供する工程、第２循環ループ内でさらなる加熱されたエッチング溶液を生成する工程、及び、前記さらなる加熱されたエッチング溶液を前記第１循環ループへ供給する工程を有する。一の実施例によると、当該処理システムは、前記加熱されたエッチング溶液によって前記基板を処理するためのプロセスチャンバ、前記加熱されたエッチング溶液を前記プロセスチャンバ内へ供する第１循環ループ、及び、さらなる加熱されたエッチング溶液を生成し、かつ、前記さらなる加熱されたエッチング溶液を前記第１循環ループへ供する第２循環ループを有する。