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Procedimiento para fabricar una preforma primaria para una fibra óptica, utilizando un proceso de deposición química en fase de vapor asistida por plasma interna, en el que precursores de formación de vidrio dopados o sin dopar se suministran al interior de un tubo de sustrato de vidrio hueco, una zona de reacción en forma de un plasma se desplaza en vaivén y adelante y atrás a lo largo de la longitud del tubo de sustrato de vidrio hueco mencionado anteriormente entre un punto de inversión próximo al lado de alimentación y un punto de inversión próximo al lado de descarga del tubo de substrato hueco, en el que el tubo de sustrato se coloca en un horno y en el que dichas condiciones se crean en la zona de reacción antes mencionada y uno o más conjuntos de capas de vidrio que se componen de, al menos, dos capas de vidrio separadas se depositan en el interior del tubo de sustrato mencionado anteriormente, caracterizado porque dicho procedimiento comprende las etapas siguientes: i) definir condiciones de deposición para la deposición de una serie de capas de vidrio a depositar mutuamente adyacentes y formar un conjunto de capas de vidrio bajo las condiciones de deposición antes mencionadas, ii) definir condiciones de deposición para la deposición de una serie de capas de vidrio sucesivas a depositar mutuamente adyacentes y formar un conjunto de capas de vidrio subsiguiente bajo las condiciones de deposición antes mencionados, en el que las condiciones de deposición así definidas para i) y ii) se diferencian entre sí, y iii) posiblemente repetir las etapas i) y ii), en el que las condiciones de deposición definidas en iii) pueden ser idénticas a las condiciones de proceso definidas en i) y ii). |
