发明名称 |
更なる金属の存在下で銅を選択的に処理する方法 |
摘要 |
本発明は、他の金属、特に錫に影響を及ぼすことなく、銅又は銅合金の表面を選択的に処理する方法に関する。本方法は、金属層のその後の堆積を容易にし且つ銅、銅合金及び前記その後に堆積した金属層の表面のはんだ付け性を強化するための銅又は銅合金の表面処理に適している。本方法は、プリント回路基板(PCB)、リードフレーム又は集積回路基板(IC基板)に適用される。 |
申请公布号 |
JP2016536453(A) |
申请公布日期 |
2016.11.24 |
申请号 |
JP20160525602 |
申请日期 |
2014.10.14 |
申请人 |
アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツングAtotech Deutschland GmbH |
发明人 |
ボリス アレクサンダー ヤンセン;イェローメ ベンダー |
分类号 |
C23F1/34;C23C18/18;C23F1/00;H01L23/12;H01L23/50;H05K3/18 |
主分类号 |
C23F1/34 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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