| 摘要 |
反作用補償チルトプラットフォームアセンブリはサポートベースと、このサポートベースに対して回動可能に結合され反作用質量とを含む。ミラーとして機能することがあるいはミラーを支持することができるチルトプラットフォームはサポートベースに対して回動可能に結合することができる。少なくとも二つのリニアアクチュエータコイルアセンブリは反作用質量によって支持できる。少なくとも二つのリニアアクチュエータ磁石アセンブリはチルトプラットフォームによって支持することができ、かつ、二つのリニアアクチュエータコイルアセンブリ内に配置することができる。リニアアクチュエータ磁石アセンブリは磁石アセンブリの中心付近の大直径から磁石アセンブリの端部付近の小直径へと先細になる。リニアアクチュエータ磁石の作動によって反作用質量に対するチルトプラットフォームの回動が生じる。 |
