| 摘要 |
본 발명은 기판을 액 처리하는 장치 및 방법을 제공한다. 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 기판 지지 유닛, 상기 기판 지지 유닛에 제1처리액을 공급하는 노즐을 가지는 액 공급 유닛, 그리고 상기 노즐이 대기하고, 상기 노즐이 토출하는 제1처리액을 외부로 배출하는 홈 포트를 포함하되, 상기 홈 포트는 상부가 개방되며, 내부에 토출 공간을 형성하는 하부 바디, 그리고 상기 하부 바디의 상단에 결합되는 상부 바디를 포함하되, 상기 하부 바디와 상기 상부 바디는 전기적 성질이 서로 상이한 재질로 제공된다. 홈포트는 수지 재질의 하부 바디 및 이의 상단에 위치되는 금속 재질의 상부 바디를 포함한다. 이로 인해 하부 바디에는 상부 바디보다 다량의 정전기가 발생된다. 전기적 성질을 가지는 제1처리액은 상부 바디보다 하부 바디에 더 강한 인력이 작용되고, 제1처리액은 하부 바디를 향하는 방향으로 이동된다. |
