摘要 |
<p>Die Erfindung bezieht sich auf eine Autofokussiereinrichtung bevorzugt für Mikroskope zur Waferinspektion, bei denen eine mit Laserlicht beleuchtete punktförmige Beleuchtungsblende (1) in ein Beobachtungsobjekt (5) abgebildet wird, dabei in einer zur Beleuchtungsblende (1) konjugierten Meßblendenanordnung ein Bild des auf dem Beobachtungsobjekt (5) beleuchteten Punktes entsteht, mit einem positionsempfindlichen Detektor (11) die Position der maximalen Intensität dieses Bildes ermittelt und diese mit einer Position verglichen wird, die der Fokusposition entspricht und aus der Lageabweichung beider Positionen ein Stellsignal für die Autofokussierung gewonnen wird. Bei einer Autofokussiereinrichtung der vorbeschriebenen Art umfaßt die Meßblendenanordnung mehrere in axialer Richtung hintereinander angeordnete optisch wirksame Bauelemente mit teils transparenten, teils intransparenten, jedoch zueinander komplementären Strukturen, und die Bauelemente im Strahlengang innerhalb eines der Tiefenschärfe entsprechenden Abstandes zueinander vor und hinter der zur Beleuchtungsblende (1) konjugierten Position angeordnet sind, wobei der Querschnitt des vom Beobachtungsobjekt (5) kommenden Lichtstrahles je nach Lage des Beobachtungsobjektes (5) durch die Strukturen mehr oder weniger abgeblockt wird.</p> |