发明名称 发电机励磁装置用单电阻达林顿管
摘要 本实用新型属于半导体晶体管技术领域,具体地说是一种发电机励磁装置用单电阻达林顿管。按照本实用新型提供的技术方案,在N<sup>+</sup>衬底扩散层的下面有背面金属化银层,在N<sup>+</sup>衬底扩散层的上面有N<sup>-</sup>单晶材料层,并在N<sup>-</sup>单晶材料层的上面形成前级晶体管的基区与后级晶体管的基区,在所述前级晶体管的基区与后级晶体管的基区的上面有二氧化硅层;在前级晶体管的基区内形成前级晶体管的发射区,在后级晶体管的基区内形成后级晶体管的发射区;所述金属化银层形成前级晶体管和后级晶体管共接的集电极。本实用新型可应用于发电机关键部位励磁装置的控制模块中。该产品耗散功率大,二次击穿耐量高,耐压高;集电极电流大,饱和压降低,抗烧性强,可靠性好。
申请公布号 CN201402808Y 申请公布日期 2010.02.10
申请号 CN200920045884.7 申请日期 2009.05.07
申请人 无锡固电半导体股份有限公司 发明人 龚利汀;钱晓平;龚利贞
分类号 H01L27/07(2006.01)I 主分类号 H01L27/07(2006.01)I
代理机构 无锡市大为专利商标事务所 代理人 曹祖良
主权项 1、发电机励磁装置用单电阻达林顿管,其特征是:在N+衬底扩散层(2)的下面有背面金属化银层(1),在N+衬底扩散层(2)的上面有N-单晶材料层(3),并在N-单晶材料层(3)的上面形成前级晶体管(T1)的基区(5)与后级晶体管(T2)的基区(7),在所述前级晶体管(T1)的基区(5)与后级晶体管(T2)的基区(7)的上面有二氧化硅层(8);在前级晶体管(T1)的基区(5)内形成前级晶体管(T1)的发射区(12),在后级晶体管(T2)的基区(7)内形成后级晶体管(T2)的发射区(13);所述金属化银层(1)形成前级晶体管(T1)和后级晶体管(T2)共接的集电极(C);刻蚀所述二氧化硅层(8),在前级晶体管(T1)的基区(5)与后级晶体管(T2)的基区(7)上形成若干刻蚀区;并在其中的第一个刻蚀区覆盖前级晶体管(T1)的基极铝层(9),所述前级晶体管(T1)的基极铝层(9)形成前级晶体管(T1)的基极(B);在第二刻蚀区通过磷扩散形成前级晶体管(T1)的发射区,在前级晶体管(T1)的发射区氧化层的电极刻蚀孔上再覆盖前级晶体管(T1)的发射极电极铝层(10),所述前级晶体管(T1)的发射极连接铝层(10)形成前级晶体管(T1)的发射极;在第三刻蚀区覆盖后级晶体管(T2)的基极连接铝层(10’),所述后级晶体管(T2)的基极连接铝层(10’)形成后级晶体管(T2)的基极;所述前级晶体管(T1)的发射极连接铝层(10)与后级晶体管(T2)的基极连接铝层(10’)在二氧化硅层(8)的表面上连成一体;在第四刻蚀区通过磷扩散形成后级晶体管(T2)的发射区,在此发射区的氧化层的电极刻蚀孔上再覆盖后级晶体管(T2)的发射极电极铝层(11),所述后级晶体管(T2)的铝层(11)形成后级晶体管(T2)的发射极(E);在前级晶体管(T1)与后级晶体管(T2)间设置V型隔离槽(6);在前级晶体管(T1)的基区(5)内对应于前级晶体管(T1)的发射极连接铝层(10)所在的部位设置前级晶体管(T1)的发射区(12);在后级晶体管(T2)的基区(7)内对应于后级晶体管(T2)的连接铝层(11)所在的部位设置后级晶体管(T2)的发射区(13),并在后级晶体管(T2)的基区(7)与发射区(13)之间的部位形成电阻(R)。
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