| 发明名称 | 多层双轴取向隔离层结构 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种多层双轴取向隔离层结构，是在立方织构金属镍衬底表面上，从下到上依次设有立方织构氧化镍种子层、二氧化锆阻挡层、和二氧化铈帽子层。并在二氧化铈帽子层上设有YBCO涂层。本实用新型的优点是：1.立方织构氧化镍种子层是立方织构金属镍衬底材料自身氧化，无需其它材料，降低成本。2.立方织构氧化镍种子层与立方织构金属镍衬底兼容性较好。3.由于是通过立方织构金属镍衬底表面氧化处理，适宜大规模长带生产，制备手段易连续化。4.二氧化锆阻挡层、和二氧化铈帽子层进一步加强隔离层作用，提高表面质量，改善与YBCO的化学稳定性和结构匹配性。提高YBCO的电性能。 | ||
| 申请公布号 | CN2681295Y | 申请公布日期 | 2005.02.23 |
| 申请号 | CN200320127737.7 | 申请日期 | 2003.12.15 |
| 申请人 | 北京有色金属研究总院 | 发明人 | 杨坚;刘慧舟;古宏伟 |
| 分类号 | H01B12/00 | 主分类号 | H01B12/00 |
| 代理机构 | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 程凤儒 |
| 主权项 | 1、一种多层双轴取向隔离层结构，其特征在于：是在立方织构金属镍衬底表面上，从下到上依次设有立方织构氧化镍种子层、二氧化锆阻挡层、和二氧化铈帽子层。 | ||
| 地址 | 100088北京市新街口外大街2号 | ||