发明名称 ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
摘要 [과제] 선폭 조도(line width roughness;LWR) 성능이 양호하고, 또한 도포 결함이 억제된 패턴을 형성하는 것이 가능한 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 및 그것을 사용한 패턴형성방법을 제공하는 것. [해결 수단] 하기 (A)∼(D)를 함유하는 것을 특징으로 하는 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물. (A) 산의 작용에 의해 알칼리 현상액에 대한 용해도가 증대하는 수지, (B) 하기 일반식 (1-1) 또는 (1-2)로 나타내어지는 활성광선 또는 방사선의 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물, (C) 불소원자 및 규소원자 중 적어도 어느 하나와, 알칼리 현상액의 작용에 의해 분해되어 알칼리 현상액에 대한 용해성이 증대하는 극성 변환기를 갖는 수지, 및 (D) 2종 이상의 용제로 이루어지는 혼합 용제이며, 하기 일반식(S1)∼(S4)으로 나타내어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 용제를 함유하고, 상기 용제의 합계 함유율이 전체 용제 중의 1∼20질량%인 혼합 용제.(식 중의 각 부호는 본 명세서 및 특허 청구범위에 기재된 의미를 갖는다.)
申请公布号 KR101657983(B1) 申请公布日期 2016.09.20
申请号 KR20100084345 申请日期 2010.08.30
申请人 후지필름 가부시키가이샤 发明人 코시지마 코우스케;시부야 아키노리;야마구치 슈헤이;카타오카 쇼헤이
分类号 G03F7/004;H01L21/027 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
地址