| 发明名称 | 掩模、有机EL元件的制造方法及有机EL打印机 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种掩模，是用于将成膜于被成膜基板的膜形成为规定图案的蚀刻用掩模(10)，包括：保护部(12)，其至少覆盖成为图案的图案区域的膜；和突起部(18)，其在与图案区域的外周部对应的位置的保护部(12)的与被成膜基板对置的对置面，从对置面突出而设置。由此，本发明高精度且容易地提供一种在进行掩模蚀刻形成规定形状的图案时，可不会造成由划痕等引起的损伤而形成图案的掩模，以及使用该掩模的高分子有机EL发光元件。 | ||
| 申请公布号 | CN1905243A | 申请公布日期 | 2007.01.31 |
| 申请号 | CN200610108601.X | 申请日期 | 2006.07.25 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 四谷真一 |
| 分类号 | H01L51/56(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H05B33/10(2006.01);C23F4/00(2006.01);B41J2/435(2006.01) | 主分类号 | H01L51/56(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1.一种掩模，是用于将成膜于被成膜基板的膜形成为规定图案的蚀刻用掩模，包括：保护部，其至少覆盖成为所述图案的图案区域的所述膜；和突起部，其在与所述图案区域的外周部对应的位置的所述保护部的与所述被成膜基板对置的对置面，从所述对置面突出设置。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||