光学装置、特にプラズマ光源またはＥＵＶリソグラフィ装置

摘要

本発明は光学装置、特にプラズマ光源（１´）またはEUVリソグラフィ装置に関する。光学装置は、ハウジング内部空間（３）を封入するハウジング（２）、ハウジング（２）内で真空を発生させる真空発生ユニット（１２）、ハウジング内部空間（３）内に配置された少なくとも１つの表面（１３）、表面（１３）に堆積した汚染物質（１４）を除去する洗浄装置（１５）、および表面（１３）をモニタリングするモニタリング装置（２５）を備える。モニタリング装置（２５）は、表面（１３）に合わせることが可能なモニタリング用光学機器（２６）を備える。洗浄装置（１５）は、CO2ペレット（１７）の形状でCO2を放出することで、堆積した汚染物質（１４）を除去するよう設計されている。【選択図】図２