发明名称 |
喷射装置 |
摘要 |
本实用新型提供一种喷射装置,其包括一个第一液体管,两个分别连接到该第一液体管的喷射管,两个喷射管上分布三个排成一排的雾化喷嘴,其中,所述至少一个雾化喷嘴对应晶圆的直径设置,该雾化喷嘴的喷射范围覆盖该晶圆的直径。与现有技术相比,本实用新型中喷射装置的雾化喷嘴的喷射范围覆盖了晶圆全部表面,这样,即使等待进入清洗制程的时间超过了预期,也可有效防止晶圆被其表面上残留的研磨液腐蚀。另外,本实用新型增设一个液体管,该液体管注入0.2%三唑甲苯,可以更好保护晶圆表面,将晶圆被腐蚀的几率降到最低。 |
申请公布号 |
CN201017856Y |
申请公布日期 |
2008.02.06 |
申请号 |
CN200720067622.1 |
申请日期 |
2007.03.06 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
朱海青;陈肖科 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01);H01L21/30(2006.01);H01L21/67(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01) |
代理机构 |
上海智信专利代理有限公司 |
代理人 |
王洁 |
主权项 |
1.一种喷射装置,其包括一个第一液体管,两个分别连接到该第一液体管的喷射管,两个喷射管上分布三个排成一排的雾化喷嘴,其特征在于:所述至少一个雾化喷嘴对应晶圆的直径设置,该雾化喷嘴的喷射范围覆盖该晶圆的直径。 |
地址 |
201203上海市张江路18号 |