发明名称 喷射装置
摘要 本实用新型提供一种喷射装置,其包括一个第一液体管,两个分别连接到该第一液体管的喷射管,两个喷射管上分布三个排成一排的雾化喷嘴,其中,所述至少一个雾化喷嘴对应晶圆的直径设置,该雾化喷嘴的喷射范围覆盖该晶圆的直径。与现有技术相比,本实用新型中喷射装置的雾化喷嘴的喷射范围覆盖了晶圆全部表面,这样,即使等待进入清洗制程的时间超过了预期,也可有效防止晶圆被其表面上残留的研磨液腐蚀。另外,本实用新型增设一个液体管,该液体管注入0.2%三唑甲苯,可以更好保护晶圆表面,将晶圆被腐蚀的几率降到最低。
申请公布号 CN201017856Y 申请公布日期 2008.02.06
申请号 CN200720067622.1 申请日期 2007.03.06
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 朱海青;陈肖科
分类号 H01L21/00(2006.01);H01L21/30(2006.01);H01L21/67(2006.01) 主分类号 H01L21/00(2006.01)
代理机构 上海智信专利代理有限公司 代理人 王洁
主权项 1.一种喷射装置,其包括一个第一液体管,两个分别连接到该第一液体管的喷射管,两个喷射管上分布三个排成一排的雾化喷嘴,其特征在于:所述至少一个雾化喷嘴对应晶圆的直径设置,该雾化喷嘴的喷射范围覆盖该晶圆的直径。
地址 201203上海市张江路18号