反射光学素子及びマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系

摘要

本発明は、反射光学素子及びマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系に関する。反射光学素子は、基板（５２）と当該基板上に配置された多層系（５１）とを備え、多層系（５１）は、第１材料の第１層（５４）及び第２材料の少なくとも１つの第２層（５５）をそれぞれが備えた複数の部分スタックを有し、第１材料及び第２材料は、反射光学素子（５０）の作動波長における屈折率の実部の値が相互に異なり、上記部分スタック（５３）のそれぞれが、部分スタック厚（Ｄｉ）及び層厚比（Γｉ）を有し、層厚比（Γｉ）は、各第１層（５４）の厚さと部分スタック厚（Ｄｉ）との商として定義され、多層系（５１）の第１部分で、部分スタック厚（Ｄｉ）及び層厚比（Γｉ）の２つの変数の少なくとも一方に関して、各平均値からの平均二乗偏差が多層系（５１）の第２部分よりも少なくとも１０％小さく、反射光学素子（５０）は、反射率Ｒを有し、０．５ｎｍの波長間隔でのその波長依存性は、０．２５未満のＰＶ値を有し、ＰＶ値は、ＰＶ＝（Ｒｍａｘ＿ｒｅｌ−Ｒｍｉｎ＿ｒｅｌ）／Ｒｍａｘ＿ａｂｓとして定義され、Ｒｍａｘ＿ｒｅｌは、前記波長間隔Δλにおける最大反射率値を示し、Ｒｍｉｎ＿ｒｅｌは、上記波長間隔Δλにおける最小反射率値を示し、Ｒｍａｘ＿ａｂｓは、絶対最大反射率値を示す。