一种微波真空金属镀膜装置

摘要

本实用新型涉及一种微波真空金属镀膜装置，具体地讲它是一种主要适用于在半导体芯片、光电子芯片等基板上镀覆金属导电膜、光反射膜以及金属化合物膜的装置，它属于金属淀积技术领域。本实用新型是由等离子室、离子轰击室、过渡室、镀膜室自上而下依次连接构成，等离子室的顶端封盖一个微波窗，镀膜室的底端安置一个底盖，镀膜室的内部安置一个摇杆式升降机构，摇杆式升降机构的上部连接一个托有加热盘的短路钣，摇杆式升降机构的摇杆穿过镀膜室的底盖。

主权项

1、一种微波真空金属镀膜装置，它是由等离子室、离子轰击室、过渡室、镀膜室自上而下依次连接构成，其特征在于等离子室的顶端封盖一个微波窗，镀膜室的底端安置一个底盖，镀膜室的内部安置一个摇杆式升降机构，摇杆式升降机构的上部连接一个托有加热盘的短路钣，摇杆式升降机构的摇杆穿过镀膜室的底盖。