发明名称 UV-Bestrahlungsanlage zur Erzeugung eines ausgedehnten UV-Strahlungsfeldes
摘要 UV-Bestrahlungsanlage zur Erzeugung eines ausgedehnten UV-Strahlungsfeldes mit hoher und räumlich konstanter Strahlungsdichte zur Materialbehandlung eines quasi-endlosen, durch das Strahlungsfeld hindurch transportierten Werkstücks (3) mit hochintensiver UV-Strahlung, mit einer Vielzahl von röhrenförmigen UV-Strahlern, die mit ihren Längsachsen parallel zueinander und zur Transportrichtung des Werkstücks angeordnet sind, wobei die Vielzahl der mit ihren Längsachsen parallel zur Transportrichtung angeordneten röhrenförmigen UV-Strahler modular aus Strahlergruppen mit jeweils einem zusammenhängenden Träger gebildet ist wobei jeder Strahlergruppe ein Teil-Reflektor zugeordnet ist, der mit der Strahlergruppe zusammen austauschbar ist, den UV-Strahlern jeder Strahlergruppe ein gemeinsames Vorschaltgerät (13) zugeordnet ist, und jeder Träger mit den zugeordneten UV-Strahlern, der zugehörige Teil-Reflektor und das den Strahlern zugeordnete Vorschaltgerät (13) miteinander mechanisch als Anlagenmodul (1.1, 1.2) verbunden sind.
申请公布号 DE10238253(B4) 申请公布日期 2007.12.13
申请号 DE2002138253 申请日期 2002.08.21
申请人 ADVANCED PHOTONICS TECHNOLOGIES AG 发明人 WIRTH, ROLF;BAER, KAI K.O.
分类号 G21K5/04;B05D3/06;B41F23/04;F26B3/28 主分类号 G21K5/04
代理机构 代理人
主权项
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