STRIPPER COMPOSITION FOR REMOVING PHOTORESIST AND STRIPPING MTHOD OF PHOTORESIST USING THE SAME

摘要

본 발명은 포토레지스트에 대한 우수한 제거 및 박리 성능을 나타내면서도, 구리 등을 함유한 하부막 상의 얼룩 또는 이물의 발생 또는 잔류를 효과적으로 억제할 수 있는 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법에 관한 것이다. 상기 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물은 1종 이상의 아민 화합물; 극성 유기 용매; 알킬렌글리콜계 용매; 및 부식 방지제를 포함하는 것이다.