发明名称 用于从气流中除去气态单质汞的方法和装置
摘要 本发明涉及一种从气流中除去气态单质汞的方法和装置和涉及进行该方法的装置。该装置包括用于接收气流的第一清洗塔(2),用于接收来自于第一清洗塔(2)的经一次加工的气流(5)的第二清洗塔(6),和用于接收来自于第二清洗塔(6)的经两次加工的气流(23)和配置以排出经清洁的气流(12)的第三清洗塔(9)。
申请公布号 CN105934269A 申请公布日期 2016.09.07
申请号 CN201580005673.9 申请日期 2015.01.27
申请人 奥图泰(芬兰)公司 发明人 T·阿尔古林
分类号 B01D53/64(2006.01)I 主分类号 B01D53/64(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 李翼
主权项 用于从气流中除去气态单质汞的方法,其中所述方法包括:(i)将所述气流(1)供入第一清洗塔(2)中,(ii)用第一清洗溶液(3)在第一清洗塔(2)中处理所述气流(1),以形成气流(1)的经一次加工的气流(5),所述第一清洗溶液(3)在第一封闭系统(4)中循环通过第一清洗塔(2)并且包含汞(II)离子,(iii)将经一次加工的气流(5)从第一清洗塔(2)供入第二清洗塔(6),(iv)用第二清洗溶液(7)在第二清洗塔(6)中处理经一次加工的气流(5),形成经一次加工的气流(5)的经两次加工的气流(23),所述第二清洗溶液(7)在第二封闭系统(8)中循环通过第二清洗塔(6)并且其包含的汞(II)离子浓度高于第一清洗溶液(3),(v)将经两次加工的气流(23)从第二清洗塔(6)供入第三清洗塔(9),(vi)用第三清洗溶液(10)在第三清洗塔(9)中处理经两次加工的气流(23),来形成经两次加工的气流(23)的经清洁的气流(12),所述第三清洗溶液在第三封闭系统(11)中循环通过第三清洗塔(9)并且其包含的汞(II)离子浓度低于第一清洗溶液(3),和(vii)从第三清洗塔(9)排出经清洁的气流(12)。
地址 芬兰埃斯波