发明名称 |
液态金属钠连续喷射的方法及所用回路 |
摘要 |
本发明属于快堆冷却剂特性技术领域,公开了液态金属钠连续喷射的方法及所用回路,该方法是将钠加热后使钠经过沉降、冷阱除杂后,在喷射支路中的钠喷射接收罐中实现连续喷射;该回路包括钠回路、阻塞计测量旁路、喷射支路。该方法及回路能够在线监测钠中杂质含量,使液态金属钠连续喷射、不堵塞喷射装置。 |
申请公布号 |
CN104036839B |
申请公布日期 |
2016.12.28 |
申请号 |
CN201310069422.X |
申请日期 |
2013.03.05 |
申请人 |
中国原子能科学研究院 |
发明人 |
杜海鸥;王荣东;王景春;王国芝;刘晨;卢晓春;石文涛 |
分类号 |
G21F9/06(2006.01)I |
主分类号 |
G21F9/06(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种液态金属钠连续喷射所用回路,其特征在于,该回路包括钠回路、阻塞计测量旁路、喷射支路;所述钠回路由电磁泵、扩散型冷阱、膨胀箱、电热元件组成,在沉降罐中初步净化后的原料钠被排入储钠罐后注入膨胀箱,电磁泵将膨胀箱的钠在钠回路中运行,扩散型冷阱将钠中的杂质进一步除去;所述阻塞计测量旁路主要由阻塞计构成,在线监测钠中杂质含量;所述喷射支路由钠计量筒和钠喷射接收罐构成,小流量喷射时,将钠由膨胀箱先注入标定的钠计量筒,再将其注入钠喷射接收罐;大流量喷射时,膨胀箱中钠通过电磁泵驱动输送到钠喷射接收罐。 |
地址 |
102413 北京市房山区北京市275信箱65分箱 |