发明名称 液态金属钠连续喷射的方法及所用回路
摘要 本发明属于快堆冷却剂特性技术领域,公开了液态金属钠连续喷射的方法及所用回路,该方法是将钠加热后使钠经过沉降、冷阱除杂后,在喷射支路中的钠喷射接收罐中实现连续喷射;该回路包括钠回路、阻塞计测量旁路、喷射支路。该方法及回路能够在线监测钠中杂质含量,使液态金属钠连续喷射、不堵塞喷射装置。
申请公布号 CN104036839B 申请公布日期 2016.12.28
申请号 CN201310069422.X 申请日期 2013.03.05
申请人 中国原子能科学研究院 发明人 杜海鸥;王荣东;王景春;王国芝;刘晨;卢晓春;石文涛
分类号 G21F9/06(2006.01)I 主分类号 G21F9/06(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种液态金属钠连续喷射所用回路,其特征在于,该回路包括钠回路、阻塞计测量旁路、喷射支路;所述钠回路由电磁泵、扩散型冷阱、膨胀箱、电热元件组成,在沉降罐中初步净化后的原料钠被排入储钠罐后注入膨胀箱,电磁泵将膨胀箱的钠在钠回路中运行,扩散型冷阱将钠中的杂质进一步除去;所述阻塞计测量旁路主要由阻塞计构成,在线监测钠中杂质含量;所述喷射支路由钠计量筒和钠喷射接收罐构成,小流量喷射时,将钠由膨胀箱先注入标定的钠计量筒,再将其注入钠喷射接收罐;大流量喷射时,膨胀箱中钠通过电磁泵驱动输送到钠喷射接收罐。
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