真空蒸镀源及使用该真空蒸镀源的真空蒸镀方法

摘要

本发明提供一种真空蒸镀源，包括内部盛放有蒸镀材料的坩埚，所述坩埚包括具有第一开口的坩埚主体和具有第二开口的坩埚上部，所述第二开口的直径小于第一开口；对所述蒸镀材料的表面通过热辐射的方式进行加热的上方加热器，所述上方加热器设置在所述坩埚上部的外侧并避开所述第二开口位置；用于反射所述上方加热器所产生的辐射热能的反射物，所述反射物设置在所述上方加热器的外侧并避开所述第二开口位置。本发明还提供使用该真空蒸镀源的真空蒸镀方法。本发明的真空蒸镀源和蒸镀方法可以提高真空镀膜过程中的镀膜稳定性。

主权项

一种对易劣化的蒸镀材料进行镀膜的镀膜方法，涉及真空蒸镀源，所述真空蒸镀源包括：内部盛放有蒸镀材料的坩埚，所述坩埚包括具有第一开口的坩埚主体和具有第二开口的坩埚上部，所述第二开口的直径小于所述第一开口；对所述蒸镀材料的表面通过热辐射的方式进行加热的上方加热器，所述上方加热器设置在所述坩埚上部的外侧并避开所述第二开口位置；设置在所述坩埚主体的外侧的下方加热器；所述坩埚上部与所述坩埚主体为可拆装结构，所述坩埚上部像所述坩埚主体的盖子似的在所述坩埚主体的开口位置与所述坩埚主体紧密地装配在一起；所述蒸镀源还包括用以放置所述坩埚的坩埚台，所述坩埚台与所述坩埚为可拆装结构，所述坩埚可以从所述真空蒸镀源的下方取出；其特征在于：当镀膜时，所述真空蒸镀源对坩埚开口部位的蒸镀材料的表面进行充分地加热，而对表面以外的其他部位的蒸镀材料控制在不会被分解或发生化学反应的温度；当更换盛放所述蒸镀材料的所述坩埚时，取下所述坩埚台，从所述真空蒸镀源的下方取出所述坩埚，将盛放所述蒸镀材料的新坩埚从所述真空蒸镀源的下方插入至所述上方加热器以及所述下方加热器的内侧位置，将插好的所述坩埚放置在所述坩埚台上，即可固定所述坩埚。