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发明名称 A METHOD FOR MANUFACTURING PHOTPMASK
摘要 포토마스크에 패턴을 형성하는 단계와, 패턴이 형성된 포토마스크의 표면을 연마하여 평탄화하는 단계와, 포토마스크의 표면을 1차 샌딩가공하는 단계와, 1차 샌딩처리된 포토마스크의 표면을 2차 샌딩가공하는 단계 및, 2차 샌딩처리된 포토마스크의 표면을 3차 샌딩가공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 제조방법이 개시된다.
申请公布号 KR101684571(B1) 申请公布日期 2016.12.08
申请号 KR20150074221 申请日期 2015.05.27
申请人 티피에스 주식회사 发明人 손광선
分类号 G03F1/50;G03F7/20;H01L21/033 主分类号 G03F1/50
代理机构 代理人
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