发明名称 曝光描绘装置及曝光描绘方法
摘要 本发明提供能够防止由被曝光基板的端部的翘曲、浮起等引起的表面和背面的对位用的标记的品质降低的曝光描绘装置及曝光描绘方法。即,本发明的曝光描绘装置具备:台座(11),载置被曝光基板;固定部(31a~31d),从预先规定的第一位置移动到第二位置,在第二位置,将载置于台座的被曝光基板的端部夹持在该固定部与该台座之间而固定;描绘部,通过在端部被固定的状态下对被曝光基板的第一面进行曝光,在该第一面描绘预先规定的电路图案;及形成部(51),与固定部的移动联动地移动,并在由该固定部固定了端部的状态下的被曝光基板的与第一面相向的第二面形成预先规定的标记。
申请公布号 CN104204957B 申请公布日期 2016.08.10
申请号 CN201380016803.X 申请日期 2013.02.22
申请人 株式会社阿迪泰克工程 发明人 鹤井弘则;桥口昭浩
分类号 G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L21/68(2006.01)I 主分类号 G03F9/00(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 熊传芳;苏卉
主权项 一种曝光描绘装置,具备:台座,载置被曝光基板;固定部,从预先规定的第一位置移动到第二位置,在所述第二位置,将载置于所述台座的所述被曝光基板的端部夹持在该固定部与该台座之间而固定;移动单元,具有支撑所述固定部的支撑板,并使所述固定部移动;描绘部,通过在由所述固定部固定了端部的状态下对所述被曝光基板的第一面进行曝光,在该第一面描绘预先规定的电路图案;及形成部,通过设于所述支撑板而与所述固定部的移动联动地移动,并在由该固定部固定了端部的状态下的所述被曝光基板的与所述第一面相向的第二面形成预先规定的标记。
地址 日本东京都