Verfahren zum Herstellen eines Rohlings für eine Phasenverschiebungs-Photomaske und Verfahren zum Herstellen einer Phasenverschiebungs-Photomaske

摘要

Verfahren zum Herstellen eines Rohlings für eine Phasenverschiebungs-Photomaske, das die Schritte umfasst: Zuführen eines reaktionsfähigen Gases zu einer Filmbildungskammer (11); und Bilden eines dünnen lichtdurchlässigen Films (104) mit einem periodischen Aufbau, der aus wenigstens vier in Richtung der Filmdicke nicht gleichmäßigen, jeweils mittels eines einzelnen Durchgangs gebildeten Filmen (81, 82, 83, 84) besteht, auf einem Träger (101) mittels einer reaktiven Sputter-Technik, während der Träger über ein Target (12) hin und zurück geführt wird, wobei der dünne lichtdurchlässige Film (104) durch wenigstens zweimaliges Hin- und Zurückführen und damit wenigstens viermaliges Führen des Trägers (101) über das Target (12) gebildet wird, um eine Zusammensetzung des lichtdurchlässigen Films (104) in Richtung einer Filmdicke auszugleichen.